
超純水液體顆粒計數器核心用于半導體、制藥、光伏、電力、精密制造等領域,對超純水及高純工藝流體中的微 / 納米顆粒(0.05–10μm)做離線檢測或在線實時監控,保障工藝良率與產品可靠性。
(1)晶圓制造超純水系統
制水端:RO/EDI/ 拋光混床出口、水箱循環,監測≥0.05μm 顆粒,控制≥0.5μm≤10 個 /mL、≥1μm≤2 個 /mL,避免濾芯老化 / 樹脂脫落污染。
輸送管網:主干管 / 支管 / 閥門 / 過濾器前后,在線 7×24 小時監測,溯源管網二次污染(如焊渣、密封圈碎屑)。
車間終端:光刻 / 蝕刻 / 沉積 / 清洗機用水點,防止顆粒導致電路短路、光刻缺陷、蝕刻不均。
(2)光刻膠與化學品
光刻膠配制 / 輸送 / 回收:監測 0.05–0.1μm 顆粒,避免晶圓表面缺陷、圖案失真。
蝕刻液 / 顯影液 / 剝離液:在線監控高純化學品顆粒,防止蝕刻不均、線路斷路。
(3)零部件清潔度驗證
硅片 / 石英 / 碳化硅部件:超純水超聲洗脫液檢測,量化清洗效果,評估供應商工藝。
泵 / 閥門 / 過濾器 / 管道:新部件驗收、定期維護,排查微顆粒脫落風險。

普洛帝PMT-2 超純水顆粒計數器
(1)注射用水(WFI)與純化水
循環回路:在線監測≥0.5μm 顆粒,符合 USP 788/EP 2.9.19,避免不溶性微粒超標引發輸液反應。
儲罐 / 分配系統:驗證 CIP/SIP 效果,確認清洗后無殘留顆粒。
(2)無菌制劑與醫療器械
注射劑 / 凍干粉針:離線檢測藥液顆粒,符合藥典標準,防止堵塞針頭、血管栓塞。
眼科溶液 / 沖洗液:控制≥0.5μm 顆粒≤5 個 /mL,避免眼部刺激、感染。
植入器械 / 導管:終洗超純水檢測,確保表面無微顆粒殘留。
(3)生物工藝
培養基 / 緩沖液配制水:控制顆粒,避免堵塞濾膜、影響細胞培養。
一次性生物反應器 / 凍存袋:表面洗脫液檢測,評估潔凈度。
(1)硅片 / 電池片制造
制絨 / 清洗 / 鈍化用水:監測≥0.1μm 顆粒,防止表面劃痕、色差、轉換效率下降。
漿料 / 切割液配制水:控制顆粒,避免切割線斷線、電池片隱裂。
(2)半導體材料
氮化鎵 / 碳化硅外延用水:0.05μm 級監測,保障外延層晶格質量。
(1)超臨界 / 超超臨界鍋爐補給水
鍋爐給水 / 凝結水:在線監測≥0.5μm 顆粒,防止鍋爐受熱面結垢、汽輪機磨損。
樹脂再生 / 清洗水:評估混床 / EDI 再生效果,避免樹脂碎片進入系統。
(2)核電
一回路 / 二回路純水:控制顆粒,防止放射性沉積、設備腐蝕。
(1)光學元件
鏡片 / 棱鏡 / 透鏡研磨 / 清洗水:監測≥0.1μm 顆粒,避免表面麻點、透光率下降。
鍍膜用水:控制顆粒,防止膜層針孔、脫落。
(2)精密機械
液壓 / 伺服系統清洗水:驗證清洗效果,防止閥芯卡滯、密封件磨損。
航空發動機 / 軸承部件:終洗水檢測,確保無金屬碎屑、研磨粉殘留。
超純水機性能驗證:新設備驗收、定期校準,對比不同品牌 / 型號過濾器效率。
納米材料研發:石墨烯 / 碳納米管分散液、納米涂層用水,監測顆粒團聚與雜質。
環境監測:高純水處理工藝優化、污染溯源研究,為工藝改進提供數據支撐。
離線檢測(臺式 / 便攜式):實驗室取樣、現場快速抽檢,粒徑 0.05–100μm,濃度 0–10?個 /mL。
在線監測(管道式):24 小時連續監測、超標報警、數據記錄,粒徑 0.05–10μm,響應時間≤1s。
核心標準:ISO 21501、GB/T 37163、SEMI C79、USP 788。
超純水液體顆粒計數器是 “水質顯微鏡",從納米級半導體到微米級制藥制劑,從電力鍋爐到光學元件,通過精準控制超純水中的微顆粒,直接保障產品良率、設備可靠性與生產安全。
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